Produkteinführung
Elektronische Chemikalien sind hochreinbare chemische Materialien, die bei der Herstellung und Verarbeitung von Halbleitern, gedruckten Leiterplatten (PCB) und anderen elektronischen Komponenten verwendet werden. Zu diesen Chemikalien gehören Seetanten, Photoresistern, Lösungsmittel und Ablagerungsvorläufer, die für die Herstellung integrierter Schaltungen, Anzeigen und anderer elektronischer Geräte wesentlich sind. Die Reinheit und Leistung dieser Chemikalien wirken sich direkt auf die Qualität, Effizienz und Zuverlässigkeit elektronischer Produkte aus, wodurch sie in der Tech -Branche unverzichtbar sind.
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Aluminiumoxid 丨 Cas 1344-28-1CAS Nr.: 1344-28-1Mehr
Reinheit: 99,99% min; Durchschnittliche Partikelgröße: 50 nm
Produktname: Aluminiumoxid
Katalog Nr.: SS119815
Molekulare Formel: Al2o3
Molekulargewicht: 101.96 -
Diphenyl(4-phenylthiophen-2-yl)sulfaniumtrifluormethansul...Katalognr.: SS131904Mehr
CAS-Nr.: 111281-12-0
Reinheit: 98 %Min
Produktname: Diphenyl(4-phenylthiophen-2-yl)sulfaniumtrifluormethansulfonat
Summenformel: C25H19F3O3S3
Molekulargewicht: 520,61 -
4-Ethenylphenolacetat丨CAS 2628-16-2Katalognr.: SS132902Mehr
CAS-Nr.: 2628-16-2
Reinheit (HPLC): 99,5 % min
Produktname: 4-Ethenylphenolacetat
Summenformel: C10H10O2
Molekulargewicht: 162,19
Synonym(e): 4-Vinylphenylacetat -
Calciumtitanat丨CAS 12049-50-2Katalognr.: SS122257Mehr
CAS-Nr.: 12049-50-2
CaTiO3: 99,5 %min
Produktname: Calciumtitanat
Summenformel: CaTiO3
Molekulargewicht: 135,94
Synonym(e): Calciumtitantrioxid -
Ethylenglykolditosylat丨CAS 6315-52-2Katalog-Nr.: SS012983Mehr
CAS-Nr.: 6315-52-2
Reinheit (durch HPLC): 99 % min
Produktname: Ethylenglykolditosylat
Summenformel: C16H18O6S2
Molekulargewicht: 370,44
Synonym(e): 1,2-Bis(tosyloxy)ethan -
Bariumtitanat 丨 CAS 12047-27-7Katalog Nr.: SS122355Mehr
CAS Nr.: 12047-27-7
Reinheit: 99,9%min
Produktname: Bariumtitanat
Molekulare Formel: Batio3
Molekulargewicht: 233.20
Synonym (en): Bariumtitanat (IV) -
Zinksulfid 丨 CAS 1314-98-3Katalog Nr.: SS131707Mehr
CAS Nr.: 1314-98-3
Reinheit: 99,99% min
Produktname: Zinksulfid
Molekulare Formel: Zns
Molekulargewicht: 97,47
Synonym (en): Sulfanylidenzinc -
Europiumchlorid Hexahydrat 丨 CAS 13759-92-7Katalog Nr.: SS130262Mehr
CAS Nr.: 13759-92-7
EU2O3/TREO: 99,99%min
Produktname: Europiumchlorid Hexahydrat
Molekulare Formel: Cl3EUH2O
Molekulargewicht: 366,41 -
Titanium Tetrafluorid 丨 CAS 7783-63-3Katalog Nr.: SS089462Mehr
CAS Nr.: 7783-63-3
TIF4: 98,5%Min
Produktname: Titanium Tetrafluorid
Molekulare Formel: TIF4
Molekulargewicht: 123,87
Synonym (en): Titan (iv) Fluorid -
Magnesiumacrylat 丨 CAS 5698-98-6Katalog Nr.: SS120317Mehr
CAS Nr.: 5698-98-6
Reinheit (nichtwässrige Titration): 98% min
Produktname: Magnesium -Acrylat
Molekulare Formel: C6H6MGO4
Molekulargewicht: 166,41
Synonym (en): 2-Propenoesäure, Magnesiumsalz -
Bis- (Natriumsulfopropyl) -Disulfid 丨 CAS 27206-35-5Katalog Nr.: SS128957Mehr
CAS Nr.: 27206-35-5
Reinheit (245 nm): 98,0% min
Produktname: Bisulfid (Natriumsulfopropyl) -Disulfid
Molekulare Formel: C6H12NA2O6S4
Molekulargewicht: 354,4
Synonym (en): Disatrium... -
Wismut Trichlorid 丨 cas 7787-60-2Katalog no .: SS119854Mehr
Cas no .: 7787-60-2
Assay/Note: 98 . 0%min./Ar
Produktname: Wismut Trichlorid
Molekulare Formel: BICL3
Molekulargewicht: 315.34
Synonym (en): Trichlorobismut
Produktvorteile und -funktionen
Hohe Reinheit
Es werden elektronische Chemikalien hergestellt, um ultrahoch-hohe Reinheitsniveaus zu erreichen, um minimale Verunreinigungen zu gewährleisten, die die Halbleiterleistung beeinflussen könnten.
01
Spezialformulierungen
Diese Chemikalien sind auf spezifische Herstellungsprozesse wie Photolithographie, Radierung und Ablagerung zugeschnitten und bieten eine präzise Kontrolle der Microelectronics -Herstellung.
02
Konsistenz und Stabilität
Elektronische Chemikalien behalten stabile chemische Eigenschaften bei, was für die Aufrechterhaltung der Gleichmäßigkeit der Produktion mit hoher Volumen von entscheidender Bedeutung ist.
03
Breiter Anwendungsbereich
Von der Reinigung und Ätzen bis hin zu Doping und Beschichtung unterstützen elektronische Chemikalien in jeder Phase der Herstellung von Halbleiter und Elektronik.
04
Verbesserte Prozesseffizienz
Optimierte chemische Formulierungen tragen dazu bei, Abfall zu reduzieren, die Defektraten und die Erträge in komplexen Herstellungsprozessen zu verbessern.
05
Produkttyp
Leichtempfindliche Materialien, die in der Photolithographie verwendet werden, um Muster auf Halbleiterwafern zu erstellen.
Chemikalien, die während des Halbleiterherstellungsprozesses selektiv Materialien entfernen, einschließlich nasse und trockener Ätzen.
Chemische Verbindungen, die in der chemischen Dampfabscheidung (CVD) und der Atomschichtabscheidung (ALD) verwendet werden, um ultradünne Filme auf Substraten aufzubauen.
Lösungsmittel und Säuren mit hoher Purity, die zum Reinigen von Wafern und anderen Komponenten verwendet werden, wobei organische und anorganische Verunreinigungen entfernt werden.
Chemikalien, die zur Veränderung der elektrischen Eigenschaften von Halbleitern verwendet werden, indem Verunreinigungen in das Material eingeführt werden, was für die Kontrolle der Leitfähigkeit von entscheidender Bedeutung ist.
Anwendung des Produkts
Halbleiter Fertigung:Elektronische Chemikalien werden in jeder Stufe der Halbleiterproduktion verwendet, von der Waferreinigung und Ätzen bis hin zu Dotierung und Metallisation.
Gedruckte Leiterplatten (PCBs):Ätzmittel, Plattierungslösungen und Photoresistern werden bei der Herstellung von PCBs, wesentlichen Komponenten in nahezu allen elektronischen Geräten verwendet.
Display -Technologien:Photoresistern und Ablagerungschemikalien sind entscheidend für die Herstellung von LCDs, OLEDs und anderen fortschrittlichen Anzeigesystemen.
Sonnenkollektoren:Spezialisierte elektronische Chemikalien werden bei der Herstellung von Photovoltaikzellen verwendet, wodurch die Energieeffizienz und -leistung verbessert werden.
Optoelektronik:Die Produktion von LEDs, Laserdioden und anderen optoelektronischen Geräten stützt sich stark auf elektronische hohe Purity-Chemikalien.
Produktmaterial
Schwefelsäure (H₂so₄):Wird als Reinigungsmittel und im Halbleiter hergestellt.
Wasserstoffperoxid (H₂o₂):Häufig in Kombination mit Schwefelsäure verwendet, um Wafern zu reinigen und organische Rückstände zu entfernen.
Tetramethylammoniumhydroxid (TMAH):Ein kritischer Entwickler, der in der Photolithographie zur Entwicklung photoresistischer Muster verwendet wird.
Isopropylalkohol (IPA):Ein vielseitiges Lösungsmittel, das bei Reinigungs- und Trocknungsprozessen zum Entfernen von Partikeln und Verunreinigungen verwendet wird.
Vorläufer wie Trimethylaluminium (TMA):Essentiell in den ALD -Prozessen (Atomic Layer Deposition) zum Erstellen von dünnen Filmen auf Substraten.
Produktionsprozess oder Verfahren
Die Herstellung elektronischer Chemikalien beinhaltet strenge Reinigungsverfahren, um Verunreinigungen zu entfernen und die für Elektronikanwendungen erforderliche ultrahohe Reinheit zu erreichen. Rohstoffe werden einer Destillation, Filtration und chemischen Verfeinerung unterzogen, um die anspruchsvollen Standards der Halbleiterindustrie zu erfüllen. Fortgeschrittene Qualitätskontrollmaßnahmen werden implementiert, einschließlich kontinuierlicher Überwachung von Verunreinigungen, präziser Mischung chemischer Gemische und strengen Tests. Die endgültigen Produkte werden in speziell entwickelten Behältern geliefert, um Kontaminationen während der Lagerung und des Transports zu verhindern und sicherzustellen, dass die Chemikalien ihre Reinheit und Stabilität bis zur Verwendung in der Produktion aufrechterhalten.
Komponenten des Produkts
Lösungsmittel
Isopropylalkohol (IPA), Aceton und andere Lösungsmittel sind entscheidend für die Reinigung und Spülung von Wafern, um sicherzustellen, dass Oberflächen frei von Trümmern und Rückständen sind.
Ätzmittel
Hydrofluorsäure, Salpetersäure und Phosphorsäure sind Schlüsselsecker, die bei Materialentfernungsprozessen während der Herstellung von Halbleiter verwendet werden.
Photoresistern
Diese spezialisierten Polymere verändern die Eigenschaften, wenn sie Licht ausgesetzt sind, und ermöglichen eine präzise Strukturierung von Halbleiterwafern.
Vorläufer
Ablagerungsvorläufer wie Trimethylaluminium (TMA) und Silan (SiH₄) sind für die Erstellung von ultradünnen Filmen in CVD- und ALD-Prozessen essentiell.
Dotiermittel
Elemente wie Bor und Phosphor werden in Halbleiter eingeführt, um ihre elektrische Leitfähigkeit anzupassen, entscheidend für die Transistorleistung.
Produktwartung und Vorsichtsmaßnahmen
Speichern Sie elektronische Chemikalien in sauberen, trockenen Umgebungen, von Licht und Feuchtigkeit, um ihre Reinheit und Wirksamkeit aufrechtzuerhalten.
Verwenden Sie beim Umgang mit elektronischen Chemikalien immer persönliche Schutzausrüstung (PSA), da viele gefährlich sein können, wenn sie nicht ordnungsgemäß verwaltet werden.
Führen Sie vor der vollständigen Produktion kleine Tests durch, um die Kompatibilität und Wirksamkeit der Chemikalien mit Ihren spezifischen Prozessen zu überprüfen.
Überwachen Sie die Ablaufdaten und die Speicherbedingungen, um sicherzustellen, dass Chemikalien im Laufe der Zeit wirksam bleiben.
Befolgen Sie alle Sicherheitsprotokolle für Verschüttungsbekämpfung und ordnungsgemäße Entsorgung gemäß den regulatorischen Standards, da eine unsachgemäße Handhabung zu schwerwiegenden Sicherheit und Umweltrisiken führen kann.
Unternehmensvorteile
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Umfassende Produktpalette
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Starkes Branchenkenntnis
Unser erfahrenes vielfältiges Team bietet Expertenanleitung und bleibt mit Branchentrends auf dem Laufenden, um optimale chemische Lösungen zu liefern, die auf Ihre Bedürfnisse zugeschnitten sind.
Wettbewerbspreise und Zuverlässigkeit
Wettbewerbspreise und zuverlässige Lieferungen gewährleisten kostengünstige und effiziente Lieferketten, ohne die Qualität zu beeinträchtigen.
Wie man mit uns zusammenarbeitet
Durch die Partnerschaft mit Leapchem haben Sie Zugang zu dem Fachwissen eines führenden Unternehmens mit 18 Jahren Erfahrung in der chemischen Industrie. Wir bieten über 27, 000 chemische Substanzen, die auf die verschiedenen Bedürfnisse zugeschnitten sind. Alle unsere Produkte halten sich an Branchenstandards und werden von den erforderlichen Zertifizierungen begleitet.
Wir arbeiten mit einer Vielzahl von Partnern zusammen, darunter:
• Forschungslabors
• Pharmaunternehmen
• Kosmetikhersteller
• Elektronikhersteller
• Chemische Hersteller
• Universitäten und Hochschulen weltweit
• und mehr.
Wir sind darauf spezialisiert, unseren Kunden zu helfen, die richtigen chemischen Lösungen zu finden, die auf ihre spezifischen Anforderungen zugeschnitten sind. Darüber hinaus bieten wir benutzerdefinierte Synthesedienste an, um den besonderen Bedürfnissen unserer Partner gerecht zu werden. Unabhängig davon, ob Sie Massenmengen für industrielle Prozesse oder kleine Chargen für spezielle Anwendungen benötigen, haben wir Sie abgedeckt.
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Häufig gestellte Fragen
F: Wofür werden elektronische Chemikalien verwendet?
F: Warum ist Reinheit in elektronischen Chemikalien wichtig?
F: Welche Branchen verwenden elektronische Chemikalien?
F: Was ist ein Photoresist?
F: Wie werden elektronische Chemikalien gespeichert?
F: Was ist ein Ätzmittel?
F: Wie wirken sich elektronische Chemikalien auf die Semiconductor -Herstellung aus?
F: Können elektronische Chemikalien gefährlich sein?
F: Welche Rolle spielt Ablagerungsvorläufer in der Elektronik?
F: Wie werden elektronische Chemikalien auf Qualität getestet?
F: Welche Lösungsmittel werden häufig in der Elektronikherstellung verwendet?
F: Welche Sicherheitsmaßnahmen sollten beim Umgang mit elektronischen Chemikalien ergriffen werden?
F: Sind elektronische Chemikalien recycelbar?
F: Wie werden elektronische Chemikalien transportiert?
F: Was sind Dotiermittel und wie werden sie in Halbleitern eingesetzt?
Wir sind bekannt als einer der führenden Elektronikchemikalienhersteller und Lieferanten in China. Wir begrüßen Sie herzlich zu billigen elektronischen Chemikalien aus unserer Fabrik. Kontaktieren Sie uns für den benutzerdefinierten Service.
140681-55-6, 4-Fluor-1,3-Dioxolan-2-One, Memantinhydrochlorid-
1, 1- carbonyldiimidazol 丨 Cas 530-62-1Cas Nr.: 530-62-1Mehr
Assay (T): 98%min
Produktname: 1, 1- carbonyldiimidazol
Synonym (s): 1, 1- carbonylbis -1... -
Palladium 丨 cas 7440-05-3CAS Nr.: 7440-05-3Mehr
Reinheit/Note: 10% PD/C auf trockener Basis.
Produktname: Palladium
Synonym (en): PD;... -
N, n-dimethylformamid dimethylacetal 丨 cas 4637-24-5Cas Nr.: 4637-24-5Mehr
Prüfung: mindestens 98%
Produktname: N, N-Dimethylformamid Dimethylacetal
Synonym (s):... -
Aluminiumoxid 丨 Cas 1344-28-1CAS Nr.: 1344-28-1Mehr
Reinheit: 99,99% min; Durchschnittliche Partikelgröße: 50 nm
Produktname:... -
Tetrakis (triphenylphosphin) palladium 丨 cas 14221-01-3Cas Nr.: 14221-01-3Mehr
Reinheit: 99%min PD: 9,2%min
Produktname: Tetrakis (Triphenylphosphin)... -
Alpha-Arbutin 丨 Cas 84380-01-8Cas Nr.: 84380-01-8Mehr
Reinheit: 99,5%min.
Produktname: Alpha-Arbutin
Synonym (s): 4-... -
N-OiDoSuccinimid 丨 Cas 516-12-1Cas Nr.: 516-12-1Mehr
Reinheit/Klasse: 98. 0%min
Produktname: N-Iodosuccinimid
Synonym (s): 1- iodo -2, 5-... -
Octadecanethiol 丨 Cas 2885-00-9Cas Nr.: 2885-00-9Mehr
Assay (GC): 98. 00%min
Produktname: Oktadecantethiol
Synonym (en): N-Octadecyl...
